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2024-11-22
2025-03-11
2024-08-16
DFJ300多種形態(tài)氚監(jiān)測裝置由典型形態(tài)氚分離系統(tǒng)與復雜反射性本底下測氚電離室即機柜和控制臺組合而成。典型形態(tài)氚分離系統(tǒng)完成對控制器中的氚和氚化水分離,分離完成的兩路氣體分別給了復雜放射性本底下測氚電離室系統(tǒng)的氚氣和氚化水監(jiān)測電離室進行測量。